ASML confirme que le premier EXE:5200 High-NA EUV est de sortie !
Le scanner lithographique EUV High-NA est la prochaine grande évolution dans le domaine de la production de semiconducteur. Officiellement, l'expédition du premier système avait commencé fin 2023, direction les USA, chez Intel Oregon, qui put ensuite célébrer la réception des premiers composants déb...